Penggunaan teknologi skin microbiome kini menjadi babak baru dalam penanganan medis bagi penderita psoriasis vulgaris. Dalam Pertemuan Ilmiah Tahunan (PIT) XXI PERDOSKI 2026 di Yogyakarta, dipaparkan bahwa pendekatan berbasis mikrobioma kulit mampu memberikan perbaikan klinis yang signifikan bagi pasien dengan kondisi kulit sensitif dan inflamasi kronis tersebut.

Penelitian yang dipimpin oleh Prof. Dr. dr. Cita Rosita S. Prakoeswa dari Fakultas Kedokteran Universitas Airlangga mengevaluasi efektivitas produk pelembap khusus, LABORÉ BiomeRepair™ TopiCalm Cream. Hasil evaluasi klinis menunjukkan peningkatan hidrasi kulit yang sangat signifikan, yakni melonjak hingga 2,05 kali lipat setelah penggunaan selama 14 hari, dan mencapai 5,26 kali lipat pada hari ke-28.

Tidak hanya meningkatkan kelembapan secara drastis, formula berbasis mikrobioma ini juga berhasil menurunkan skor Psoriasis Area and Severity Index (PASI) pada area lengan pasien secara signifikan dibandingkan dengan penggunaan pelembap konvensional tanpa formula mikrobioma. Hal ini menunjukkan bahwa keseimbangan mikroorganisme di permukaan kulit memiliki peran krusial dalam mempercepat pemulihan skin barrier (pelindung kulit) yang rusak akibat psoriasis.

Sebagai penyakit peradangan kulit kronis, psoriasis sering kali ditandai dengan kulit yang sangat kering, bersisik, dan rusaknya fungsi pertahanan alami kulit. Oleh sebab itu, menjaga kelembapan optimal menjadi langkah kunci dalam manajemen terapi penyakit ini. Teknologi 3X-SYNBIOTICS yang diusung dalam produk tersebut memadukan prebiotik, postbiotik, dan paraprobiotik untuk memulihkan ekosistem kulit sehat.

Selain pada kasus psoriasis, riset kolaboratif antara FK Unair, RSUD Dr. Soetomo, dan Dermalogia ini juga menguji efektivitas formula mikrobioma pada kondisi kulit lain. Hasilnya, pasien dengan dermatitis atopik mengalami pengurangan gejala kulit mengelupas, sementara pemulihan pascatindakan laser fraksional menunjukkan penurunan kemerahan kulit (eritema) hingga 90 persen hanya dalam waktu tujuh hari.